第166章 中国人自己的芯片（1/4）
接下来两天，苏白几乎没有出过废品站的门。
十片硅圆片整齐的排在工作台上，每一片都经过了他用蒸馏水和无水酒精的反复清洗。
第一步，涂光刻胶。
苏白用自制的旋涂装置，也就是那台离心机换了个低速档，把光刻胶均匀甩在硅片表面。
转速一千二百转，持续三十秒。
取下来的硅片表面覆盖了一层薄薄的淡黄色胶膜，厚度约两微米。
然后是预烘。
苏白把涂好胶的硅片放在铁板上，下面用酒精灯加热。
温度控制在九十度，烘两分钟，让胶膜里的溶剂挥发干净。
佟舒帮他计时，手里攥着那只从废品堆里淘出来的老式怀表。
“两分钟到了。”
苏白用镊子把硅片取下来，放在避光盒里冷却。
十片硅片，十次涂胶，十次预烘。
流水线作业，两人配合的十分默契。
第二步，曝光。
这一步必须在暗室环境下完成。
苏白把废品站的窗户用黑布蒙的严严实实，只留一盏红色安全灯。
他从避光盒里取出那张修改好的光刻掩膜，那张没有自毁后门的版本。
掩膜覆盖在涂好胶的硅片上方，对准位置。
苏白用的对准方法很简单：硅片边缘有一个他预先刻好的定位缺口，掩膜上有对应的十字标记。
两个标记重合，就意味着对准完成。
破绽之眼辅助微调，精度控制在一微米以内。
然后开灯。
那盏从轧钢厂暗房里搬回来的高压汞灯发出强烈的紫外线。
曝光十五秒。
关灯。
紫外线透过掩膜上的透明图案区域，照射在光刻胶上。
被照到的部分发生化学反应，变的溶于显影液。
没被照到的部分保持不变，继续保护下方的硅片。
这就是光刻的基本原理。
简单，但每一步的精度要求都很高。
第三步，显影。
苏白把曝光后的硅片浸入碳酸钠溶液中，轻轻晃动三十秒。
被紫外线照射过的胶膜溶解脱落，露出下方裸露的硅表面。
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