第459章 首台EUV光刻机（1/5）
一晃眼，2013年翻篇了，日子来到2014年。
硅谷的天气挺好，阳光明媚。
但全世界科技圈的大佬们，这会儿全在办公室里愁得揪头发。
出大事了。
而且是物理学层面的绝望大事。
全球半导体产业，这辆在摩尔定律的高速公路上狂飙了几十年的超级跑车。
突然砰的一声，撞上了一堵看不见的水泥墙！
集体卡壳了！
这堵墙的名字，叫14纳米物理极限。
啥意思呢？
简单来说，造芯片就是在指甲盖大小的硅片上画图。
你要在上面画出几千万、几十亿个晶体管。
画图得用笔吧？
半导体行业画图的笔，叫光刻机。
现在全世界最牛逼的光刻机，是dUV，也就是深紫外光刻机。
这玩意的光源波长是193纳米。
前些年，芯片工艺从90纳米、65纳米一路往下缩。
大家还能靠着在镜头里灌水、搞多重曝光这些花活儿，硬撑着把线条画细。
就好比你手里拿着一支粗马克笔，非要在米粒上写字。
你小心翼翼地描，勉强还能对付。
但是现在！
芯片制程推进到了14纳米这个变态的节点！
这就好比让你拿着一把扫帚，去画一幅清明上河图！
dUV光刻机，彻底达到了物理极限！
画不出来了！
光线太粗了，晶体管挤在一起，直接互相干扰，漏电漏得一塌糊涂。
芯片一通电，哧溜一下，直接烧成了电烤炉。
良品率低到让人想跳楼。
这下子，全球的科技巨头全傻眼了。
各大巨头的研发部门，直接宣告停滞！
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